纳米加工技术和原理

Stepanova

Nanofabrication

Techniques and Principles

2011，344p

Hardcover

ISBN9783709104231

传统的微电子制备技术为半导体、绝缘体和金属薄层的物质沉积、表面的图案化和蚀刻提供了有力的工具，有关微电子制备相关知识也已经被全面整理成著作，影响着更多的人。新兴的一系列纳米尺度的工具也在快速发展，比如原子层沉积和氦离子束制作纳米机器等，这方面的知识还未被系统地整理出来。本书旨在对科学家和工程师在纳米尺度制备的重要进展进行系统整理。

本书分4部分共13章，第1部分为引言，含第1章：1.纳米加工的方向。第2部分纳米光刻，含第2-5章：2.电子束曝光的基础和发展；3.电子束曝光的启发和纳米图案化的抗蚀过程；4.氦离子光刻；5.纳米压印技术。第3部分纳米尺度的沉积，含第6-9章：6.纳米技术的原子层沉积；7.纳米区域的表面功能化；8.基于嵌段共聚物自组装的纳米结构；9.通过电沉积法的半导体上金属的外延生长。第4部分纳米蚀刻和图案化 ，含第10-13章：10.纳米技术的化学机械抛光；11.用聚焦氦离子束的沉积，研磨和蚀刻；12.激光纳米图案化；13.用阳极化处理的纳米多孔铝/钛的模板化和图案转移。

本书重点关注的不是微电子制备的延伸，而是适用于生物传感器、纳米材料、光晶等和其他新型器件材料的技术。本书思路清晰、内容新颖，适合广大微纳米加工领域的专家学者和学生阅读。

金娟， 博士研究生

（国家纳米科学中心，清华大学化学系）

Jin Juan， Ph.D Candidate

（National Center for Nanoscience and Technology，Department of Chemistry，Tsinghua University）